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自由容器
CMP设备在转台上使用多个摆臂机构，比如将如抛光垫修整器等移动到位的机构。下面我们将为您介绍CMP机械臂机构的课题解决方案！
 
自由容器
 
概述
   为保证在整个晶圆上均匀分配适量的材料，CMP工艺在材料去除过程中施加不同的力，并精确停止。 因此，为摆臂机构提供精确定位控制非常重要，合理的选用响应快速的驱动源，以避免抛光过多的基材。
 
横向标签
机械臂-转动
机械臂-升降
末端执行器-转动
多轴/薄型驱动器